Совмещение и экспонирование

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 25 Ноября 2011 в 23:10, дипломная работа

Описание

Совмещение и экспонирование – две различные операции, но выполняются на одной установке. На операции совмещения рисунок на подложке (полученный на предыдущей фотолитографии) совмещают с рисунком на фотошаблоне (фотошаблон – стеклянная пластина с нанесенным на нее непрозрачным пленочным рисунком). На операции экспонирования слой фоторезиста засвечивают через фотошаблон ультрафиолетовым светом. Для полного формирования ИМС необходим комплект фотошаблонов (для каждой фотолитографии свой фотошаблон) со строго согласованными друг относительно друга рисунками.

Содержание

Введение______________________________________ 2

Назначение установки совмещения и экспонирования_3

Назначение и суть технологической операции_______ 5

Устройство и работа установки____________________ 11

Материалы и оснастка___________________________ 17

Подготовка к работе_____________________________ 18

Подготовка оборудования________________________ 19

Порядок работы с установкой______________________20

Режимы работы установки_________________________23

Виды брака возникающие после операции

« Совмещение и экспонирование»_________________24

Межоперационные сроки хранения________________ 25

Требования к параметрам микроклимата___________ 27

Требования охраны труда на участке фотолитографии_28

Общие требования безопасности__________________ 29

Экологические требования_______________________ 31

Работа состоит из  1 файл

Весь диплом - копия.docx

— 449.84 Кб (Скачать документ)

Квалификация:

 «Оператор прецизионной фотолитографии» 
 
 

Реферат на тему:

«Технологический  процесс совмещения и экспонирования на установке ЭМ - 5026» 
 
 
 

Выполнила учащаяся группы 2070 ОПП

Иванова Екатерина 
 
 
 

Мурманск 2009 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

  

 

 

Информация о работе Совмещение и экспонирование