Автор работы: Пользователь скрыл имя, 25 Ноября 2011 в 23:10, дипломная работа
Совмещение и экспонирование – две различные операции, но выполняются на одной установке. На операции совмещения рисунок на подложке (полученный на предыдущей фотолитографии) совмещают с рисунком на фотошаблоне (фотошаблон – стеклянная пластина с нанесенным на нее непрозрачным пленочным рисунком). На операции экспонирования слой фоторезиста засвечивают через фотошаблон ультрафиолетовым светом. Для полного формирования ИМС необходим комплект фотошаблонов (для каждой фотолитографии свой фотошаблон) со строго согласованными друг относительно друга рисунками.
Введение______________________________________ 2
Назначение установки совмещения и экспонирования_3
Назначение и суть технологической операции_______ 5
Устройство и работа установки____________________ 11
Материалы и оснастка___________________________ 17
Подготовка к работе_____________________________ 18
Подготовка оборудования________________________ 19
Порядок работы с установкой______________________20
Режимы работы установки_________________________23
Виды брака возникающие после операции
« Совмещение и экспонирование»_________________24
Межоперационные сроки хранения________________ 25
Требования к параметрам микроклимата___________ 27
Требования охраны труда на участке фотолитографии_28
Общие требования безопасности__________________ 29
Экологические требования_______________________ 31