Ионная, рентгеновская и электронная литография

Литография – процесс формирования на технологическом (функциональном) слое резистовой маски соответствующей топологии данного слоя с определённым уровнем прецизионности размеров элементов и совмещения с другими функциональными слоями.
Требуемые размеры элементов в резистовой маске (РМ) должны выполняться с учётом технологии последующих обработок РМ и технологической коррекции, которая учитывает уход размера в процессе переноса изображения и процессов травления и легирования через сформированную резистовую маску. В процессе травления и легирования технологическим трансформациям подверга-ется не только технологический слой, но и резистовая маска, что приводит к необходимости учёта трёхмерной конфигурации маски как при ее получении, так и учитывать ее стойкость к соответствующим физикохимическим факторам, действующим в процессах травления и легирования.