Изучение технологии получения тонких диэлектрических плёнок для металлопленочных чувствительных элементов датчиков давления

При анализе технологического маршрута изготовления ЧЭ можно выделить следующие основные этапы:
- изготовление упругого элемента (элемента воспринимающего) и поли-ровка его воспринимающей поверхности (подложки);
- подготовка (очистка) воспринимающей поверхности ЧЭ перед нанесе-нием тонкой изолирующей пленки;
- нанесение изолирующей тонкой пленки с заданными электрофизиче-скими параметрами на воспринимающую поверхность металлического ЧЭ;
- нанесение тонкой резистивной пленки;
- нанесение тонкой проводящей пленки;
- формирование топологического рисунка тензомоста на ЧЭ;
- термообработка сформированной схемы;

Введение 4
1 Конструктивно-технологические решения чувствительных элементов для тонкопленочных тензорезисторных датчиков давления 6
1.1 Выбор материалов 6
1.2 Очистка поверхности ЧЭ перед нанесением тонкопленочной структуры 8
1.3 Формирование топологического рисунка тензомоста на ЧЭ 11
1.4 Термообработка сформированной схемы 13
1.5 Сборка модуля измерительного и датчика 13
2 Технологические особенности послойного формирования тонкопленочной структуры 15
3 Принцип работы вакуумных установок 22
3.1 Термическое вакуумное распыление 22
3.2 Катодное распыление 28
4 Выбор методов контроля формируемой тонкой пленки. Достоинства и недостатки каждого из них 36
4.1 Резистивный метод 36
4.2 Ионизационный метод 37
4.3 Частотный метод 37
4.4 Фотометрический метод 38
Заключение 40
Список использованных источников